ICP原子發(fā)射光譜儀廠家

ICP原子發(fā)射光譜儀作為大型精密無機(jī)分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等，從超微量到常量的定性或定量分析。它集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的高新技術(shù)產(chǎn)品，具有測(cè)試速度快、測(cè)量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等特點(diǎn)。

ICP原子發(fā)射光譜儀廠家

ICP原子發(fā)射光譜儀作為大型精密無機(jī)分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等，從超微量到常量的定性或定量分析。它集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)、分析技術(shù)于一體的高新技術(shù)產(chǎn)品，具有測(cè)試速度快、測(cè)量范圍寬、分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等特點(diǎn)。

一、儀器整機(jī)主要性能參數(shù)：

波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵

分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；

波長示值和重復(fù)性：波長示值≤0.02nm，重復(fù)性≤0.003nm；

掃描步距：0.0004nm；

重復(fù)性：RSD≤1.0%；

穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；

檢出限：ppb級(jí)；

分析元素范圍：可對(duì)70種金屬元素和部分非金屬元素（如B、P、Si、Se 、 Te）進(jìn)行定量

優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)，*控制系統(tǒng)，保證峰位定位準(zhǔn)確，信背比優(yōu)良

極小的基體效應(yīng)，具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和 313.183nm

測(cè)量范圍寬， 超微量到常量的分析,動(dòng)態(tài)線性范圍5—6個(gè)數(shù)量級(jí)

配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)

配聯(lián)想電腦

配惠普激光打印機(jī)

氣路：雙向或單向均可

氬氣：99.99%

操作軟件：

操作系統(tǒng)：Windows XP 操作平臺(tái)或其他主流系統(tǒng)；

有廠家的LOGO標(biāo)志

測(cè)定波長數(shù)：任意選擇；

分析速度：最快時(shí)候每分鐘25個(gè)元素以上；

數(shù)據(jù)庫：譜線庫11萬條以上；

該軟件數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大，提供了多 種方法，如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC

監(jiān)測(cè)功能等，可獲得優(yōu)良的背景扣除點(diǎn)以消除干擾

多窗口：在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量         下一樣品；

標(biāo)準(zhǔn)加入法：軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法，以便在不同條件和應(yīng)用中下使用；

分析模式：軟件默認(rèn)優(yōu)良分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)         量方式和幾種 積分模式，單位任選等多種功能歷史數(shù)據(jù)庫：在歷史數(shù)        據(jù)庫中，可以同時(shí)可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果；

數(shù)據(jù)輸出：軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果